“適用于UHPLC-MS（for UHPLC-MS）”是什么意思
這些溶劑/試劑是專(zhuān)為配合質(zhì)譜（MS）檢測(cè)的超高效液相色譜（UHPLC；< 2µm填料、高壓力）而生產(chǎn)并通過(guò)相應(yīng)QC測(cè)試的。其具有極低的非揮發(fā)殘留、ppb級(jí)金屬雜質(zhì)、極低的UV/MS本底以及亞微米級(jí)微粒控制，因此即使在痕量水平也能保持色譜柱和離子源的清潔與靈敏。
隨著LC色譜柱粒徑縮?。?lt; 2µm）且系統(tǒng)壓力升高（UHPLC系統(tǒng)可運(yùn)行至約1,000 bar（≈15,000psi）），溶劑潔凈度與顆?？刂频闹匾燥@著提升；與此同時(shí)，MS離子源對(duì)低離子/有機(jī)污染的要求愈發(fā)嚴(yán)格。各供應(yīng)商據(jù)此推出了面向LC-MS且與UHPLC兼容的專(zhuān)用等級(jí)，并在純化、質(zhì)量控制（QC）和包裝環(huán)節(jié)增加了工序。由于沒(méi)有統(tǒng)一的外部標(biāo)準(zhǔn)，“LC-MS/UHPLC-MS等級(jí)”由供應(yīng)商自行界定——請(qǐng)務(wù)必查閱批次COA（分析證書(shū)）。
UHPLC–MS工作流程對(duì)污染極其敏感。微量的非揮發(fā)殘留、堿金屬（Na?/K?）、增塑劑或微粒都可能抑制電離、提高化學(xué)噪聲、產(chǎn)生加合物，甚至堵塞濾片/色譜柱（frits/columns）。標(biāo)注“適用于UHPLC–MS”的產(chǎn)品通過(guò)以下措施針對(duì)性降低這些風(fēng)險(xiǎn)：(a)更嚴(yán)格的雜質(zhì)限度，(b)亞微米級(jí)末端過(guò)濾/潔凈包裝，以及(c)與方法相關(guān)的適用性測(cè)試（梯度PDA〔二極管陣列〕、LC–MS本底）。
“適用于UHPLC–MS”相較普通等級(jí)的獨(dú)特之處：
- 雙重調(diào)校：同時(shí)滿(mǎn)足:(1)UHPLC的機(jī)械要求（小粒徑/高壓力）與 (2) MS的化學(xué)要求（有利電離、超低離子/有機(jī)本底）。
- 結(jié)果收益：更高的靈敏度、更潔凈的譜圖、更長(zhǎng)的色譜柱/離子源壽命，以及在痕量水平下更佳的基線(xiàn)重現(xiàn)性。
在COA上常見(jiàn)的QC/實(shí)驗(yàn)室測(cè)試項(xiàng)目
具體限度因供應(yīng)商與溶劑而異，但常見(jiàn)測(cè)試包括：
- MS本底（ESI±）——TIC（總離子流）/背景離子低→痕量水平譜圖更干凈
- 痕量金屬（ICP-MS）——ppb級(jí)Na?/K?/過(guò)渡金屬→更少加合物、更高靈敏度
- 蒸發(fā)殘留——mg/L級(jí)低殘留→降低離子源結(jié)垢
- UV/梯度基線(xiàn)（200–400nm）——PDA基線(xiàn)平滑→確保UHPLC梯度穩(wěn)定
- 水分（KF）、含量（assay）、酸度/堿度——組成控制
- 微粒與末端過(guò)濾（0.1–0.2µm）——保護(hù)< 2µm色譜柱
- 包裝/內(nèi)襯——低析出瓶蓋、惰性氣體覆蓋。
阿拉丁具體產(chǎn)品示例
- 乙腈（Acetonitrile）——適用于UHPLC，適合MS：低黏度、低背壓；已進(jìn)行MS本底篩查；末端亞微米過(guò)濾。小分子ESI?方法的優(yōu)選默認(rèn)溶劑。
- 甲酸銨（Ammonium formate）——適用于LC–MS：適用于正/負(fù)兩種離子模式的揮發(fā)性緩沖鹽。
- 氨水（Ammonia solution，25%水溶液）——適用于LC–MS：負(fù)離子模式/高pH方法用的揮發(fā)性堿；注意色譜柱pH限度與材料相容性。
- 水（Water）——適用于UHPLC，適合MS：低TIC；< 0.2µm過(guò)濾；通過(guò)梯度測(cè)試。穩(wěn)定MS基線(xiàn)的關(guān)鍵組成。
- 甲醇（Methanol）——適用于UHPLC，適合MS：與ACN選擇性不同；嚴(yán)格微?？刂啤＿m用于酚類(lèi)化合物及部分ESI?工作流。
與相關(guān)等級(jí)的比較
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等級(jí)
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主要目的
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典型新增測(cè)試/特性
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適用場(chǎng)景
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HPLC grade
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低UV/熒光本底，通用色譜
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UV截止/透過(guò)率，低殘留
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采用UV/FLD的HPLC（無(wú)MS）；日常/常規(guī)工作
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HPLC Gradient grade / UHPLC (UV)
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在梯度與小粒徑色譜柱上獲得平滑基線(xiàn)
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梯度基線(xiàn)測(cè)試；精細(xì)過(guò)濾
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使用光學(xué)檢測(cè)器的快速梯度HPLC/UHPLC
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LC-MS grade
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面向質(zhì)譜的靈敏度與潔凈度
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MS本底測(cè)試；ppb級(jí)金屬；低殘留
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在標(biāo)準(zhǔn)HPLC或UHPLC上進(jìn)行LC-MS(/MS)
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UHPLC-MS grade
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同時(shí)滿(mǎn)足UHPLC的機(jī)械需求與MS的化學(xué)需求
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在LC-MS測(cè)試基礎(chǔ)上，增加更嚴(yán)的顆粒/梯度規(guī)范與UHPLC適用性
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< 2µm柱 + MS檢測(cè)的最佳選擇
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選型要點(diǎn)與注意事項(xiàng)
1. 檢測(cè)器決定等級(jí)：若終端檢測(cè)為MS，請(qǐng)選擇LC-MS或UHPLC-MS等級(jí)。HPLC級(jí)可用于僅UV的方法，但在MS上可能提高噪聲或產(chǎn)生加合物。
2. 使用揮發(fā)性添加劑：優(yōu)選甲酸/乙酸、甲酸銨/乙酸銨；在LC-MS中避免使用磷酸鹽/硼酸鹽/Tris——它們會(huì)抬高本底、抑制信號(hào)并污染離子源。
3. 謹(jǐn)慎使用TFA：TFA在僅UV的工作流程中有助于峰形，但會(huì)抑制電噴霧電離（ESI）信號(hào)；若MS靈敏度重要，請(qǐng)改用FA（甲酸）或采取緩解策略。
4. 系統(tǒng)整體匹配：LC-MS級(jí)水與有機(jī)相同等重要；管路、瓶蓋與樣品瓶應(yīng)選用低析出規(guī)格（配PTFE襯墊）以減少浸出物。。
5. 不要指望“混合提升”：不同等級(jí)混合后，潔凈度只會(huì)等同于最差的那一組分。
6. 儲(chǔ)存與操作：保持嚴(yán)密密封，盡量減小頭空間，并使用潔凈的玻璃流路；自配混合溶劑須0.2 
預(yù)過(guò)濾，必要時(shí)脫氣。
常見(jiàn)問(wèn)答（FAQs）
問(wèn)：我能在普通HPLC上使用UHPLC–MS 等級(jí)溶劑嗎？
答：可以——該等級(jí)向下兼容。這不會(huì)損害系統(tǒng)；但若僅做UV檢測(cè)，你可能為并不需要的性能多付成本。
問(wèn)：“LC–MS級(jí)”在各品牌間是否有統(tǒng)一標(biāo)準(zhǔn)？
答：沒(méi)有全球統(tǒng)一規(guī)范；各供應(yīng)商會(huì)自定合格標(biāo)準(zhǔn)（如金屬項(xiàng)目、MS本底、殘留限度等）。請(qǐng)以所用批次的COA為準(zhǔn)。
問(wèn)：為何用“MS級(jí)”溶劑做UHPLC–UV仍會(huì)出現(xiàn)基線(xiàn)起伏/鬼峰？
答：“MS級(jí)”更強(qiáng)調(diào)電離潔凈度；若要獲得梯度UV的平滑基線(xiàn)，請(qǐng)確認(rèn)該批次通過(guò)梯度/PDA測(cè)試，或改用專(zhuān)門(mén)的梯度/UHPLC等級(jí)溶劑。
問(wèn)：做肽類(lèi)LC–MS 應(yīng)選哪種酸？
答：優(yōu)先嘗試甲酸（FA）或甲酸銨。TFA可改善峰形，但會(huì)抑制ESI靈敏度；僅在必要時(shí)、并配合緩解策略（如柱后補(bǔ)加/“去抑制”處理）使用。
問(wèn)：金屬雜質(zhì)真的重要嗎？
答：重要——ppb級(jí)堿金屬/過(guò)渡金屬會(huì)導(dǎo)致加合物并降低靈敏度；請(qǐng)選擇具有ppb級(jí)ICP-MS金屬指標(biāo)且MS本底干凈的批次。
為什么在UHPLC-MS工作中選擇阿拉丁
阿拉丁面向UHPLC–MS的溶劑/添加劑除通過(guò)MS本底與ppb級(jí)金屬的QC外，還完成梯度/UHPLC適用性核驗(yàn)。配套的批次COA與幫助中心指引，方便按方法選擇合適等級(jí)，并對(duì)合規(guī)或已驗(yàn)證的流程形成完備的文檔化佐證。
購(gòu)買(mǎi)鏈接：：阿拉丁試劑網(wǎng)
