“適用于UHPLC-MS（for UHPLC-MS）”是什么意思
這些溶劑/試劑是專為配合質譜（MS）檢測的超高效液相色譜（UHPLC；< 2µm填料、高壓力）而生產并通過相應QC測試的。其具有極低的非揮發(fā)殘留、ppb級金屬雜質、極低的UV/MS本底以及亞微米級微?？刂?，因此即使在痕量水平也能保持色譜柱和離子源的清潔與靈敏。
隨著LC色譜柱粒徑縮?。?lt; 2µm）且系統(tǒng)壓力升高（UHPLC系統(tǒng)可運行至約1,000 bar（≈15,000psi）），溶劑潔凈度與顆?？刂频闹匾燥@著提升；與此同時，MS離子源對低離子/有機污染的要求愈發(fā)嚴格。各供應商據(jù)此推出了面向LC-MS且與UHPLC兼容的專用等級，并在純化、質量控制（QC）和包裝環(huán)節(jié)增加了工序。由于沒有統(tǒng)一的外部標準，“LC-MS/UHPLC-MS等級”由供應商自行界定——請務必查閱批次COA（分析證書）。
UHPLC–MS工作流程對污染極其敏感。微量的非揮發(fā)殘留、堿金屬（Na?/K?）、增塑劑或微粒都可能抑制電離、提高化學噪聲、產生加合物，甚至堵塞濾片/色譜柱（frits/columns）。標注“適用于UHPLC–MS”的產品通過以下措施針對性降低這些風險：(a)更嚴格的雜質限度，(b)亞微米級末端過濾/潔凈包裝，以及(c)與方法相關的適用性測試（梯度PDA〔二極管陣列〕、LC–MS本底）。
“適用于UHPLC–MS”相較普通等級的獨特之處：
- 雙重調校：同時滿足:(1)UHPLC的機械要求（小粒徑/高壓力）與 (2) MS的化學要求（有利電離、超低離子/有機本底）。
- 結果收益：更高的靈敏度、更潔凈的譜圖、更長的色譜柱/離子源壽命，以及在痕量水平下更佳的基線重現(xiàn)性。
在COA上常見的QC/實驗室測試項目
具體限度因供應商與溶劑而異，但常見測試包括：
- MS本底（ESI±）——TIC（總離子流）/背景離子低→痕量水平譜圖更干凈
- 痕量金屬（ICP-MS）——ppb級Na?/K?/過渡金屬→更少加合物、更高靈敏度
- 蒸發(fā)殘留——mg/L級低殘留→降低離子源結垢
- UV/梯度基線（200–400nm）——PDA基線平滑→確保UHPLC梯度穩(wěn)定
- 水分（KF）、含量（assay）、酸度/堿度——組成控制
- 微粒與末端過濾（0.1–0.2µm）——保護< 2µm色譜柱
- 包裝/內襯——低析出瓶蓋、惰性氣體覆蓋。
阿拉丁具體產品示例
- 乙腈（Acetonitrile）——適用于UHPLC，適合MS：低黏度、低背壓；已進行MS本底篩查；末端亞微米過濾。小分子ESI?方法的優(yōu)選默認溶劑。
- 甲酸銨（Ammonium formate）——適用于LC–MS：適用于正/負兩種離子模式的揮發(fā)性緩沖鹽。
- 氨水（Ammonia solution，25%水溶液）——適用于LC–MS：負離子模式/高pH方法用的揮發(fā)性堿；注意色譜柱pH限度與材料相容性。
- 水（Water）——適用于UHPLC，適合MS：低TIC；< 0.2µm過濾；通過梯度測試。穩(wěn)定MS基線的關鍵組成。
- 甲醇（Methanol）——適用于UHPLC，適合MS：與ACN選擇性不同；嚴格微?？刂?。適用于酚類化合物及部分ESI?工作流。
與相關等級的比較
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等級
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主要目的
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典型新增測試/特性
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適用場景
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HPLC grade
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低UV/熒光本底，通用色譜
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UV截止/透過率，低殘留
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采用UV/FLD的HPLC（無MS）；日常/常規(guī)工作
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HPLC Gradient grade / UHPLC (UV)
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在梯度與小粒徑色譜柱上獲得平滑基線
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梯度基線測試；精細過濾
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使用光學檢測器的快速梯度HPLC/UHPLC
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LC-MS grade
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面向質譜的靈敏度與潔凈度
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MS本底測試；ppb級金屬；低殘留
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在標準HPLC或UHPLC上進行LC-MS(/MS)
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UHPLC-MS grade
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同時滿足UHPLC的機械需求與MS的化學需求
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在LC-MS測試基礎上，增加更嚴的顆粒/梯度規(guī)范與UHPLC適用性
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< 2µm柱 + MS檢測的最佳選擇
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選型要點與注意事項
1. 檢測器決定等級：若終端檢測為MS，請選擇LC-MS或UHPLC-MS等級。HPLC級可用于僅UV的方法，但在MS上可能提高噪聲或產生加合物。
2. 使用揮發(fā)性添加劑：優(yōu)選甲酸/乙酸、甲酸銨/乙酸銨；在LC-MS中避免使用磷酸鹽/硼酸鹽/Tris——它們會抬高本底、抑制信號并污染離子源。
3. 謹慎使用TFA：TFA在僅UV的工作流程中有助于峰形，但會抑制電噴霧電離（ESI）信號；若MS靈敏度重要，請改用FA（甲酸）或采取緩解策略。
4. 系統(tǒng)整體匹配：LC-MS級水與有機相同等重要；管路、瓶蓋與樣品瓶應選用低析出規(guī)格（配PTFE襯墊）以減少浸出物。。
5. 不要指望“混合提升”：不同等級混合后，潔凈度只會等同于最差的那一組分。
6. 儲存與操作：保持嚴密密封，盡量減小頭空間，并使用潔凈的玻璃流路；自配混合溶劑須0.2 
預過濾，必要時脫氣。
常見問答（FAQs）
問：我能在普通HPLC上使用UHPLC–MS 等級溶劑嗎？
答：可以——該等級向下兼容。這不會損害系統(tǒng)；但若僅做UV檢測，你可能為并不需要的性能多付成本。
問：“LC–MS級”在各品牌間是否有統(tǒng)一標準？
答：沒有全球統(tǒng)一規(guī)范；各供應商會自定合格標準（如金屬項目、MS本底、殘留限度等）。請以所用批次的COA為準。
問：為何用“MS級”溶劑做UHPLC–UV仍會出現(xiàn)基線起伏/鬼峰？
答：“MS級”更強調電離潔凈度；若要獲得梯度UV的平滑基線，請確認該批次通過梯度/PDA測試，或改用專門的梯度/UHPLC等級溶劑。
問：做肽類LC–MS 應選哪種酸？
答：優(yōu)先嘗試甲酸（FA）或甲酸銨。TFA可改善峰形，但會抑制ESI靈敏度；僅在必要時、并配合緩解策略（如柱后補加/“去抑制”處理）使用。
問：金屬雜質真的重要嗎？
答：重要——ppb級堿金屬/過渡金屬會導致加合物并降低靈敏度；請選擇具有ppb級ICP-MS金屬指標且MS本底干凈的批次。
為什么在UHPLC-MS工作中選擇阿拉丁
阿拉丁面向UHPLC–MS的溶劑/添加劑除通過MS本底與ppb級金屬的QC外，還完成梯度/UHPLC適用性核驗。配套的批次COA與幫助中心指引，方便按方法選擇合適等級，并對合規(guī)或已驗證的流程形成完備的文檔化佐證。
購買鏈接：：阿拉丁試劑網(wǎng)
